关于除粉尘二氧化硅的问题请教

      遇到了头疼的问题，特来想各位前辈请教！

      背景：

      我们是含氢废气回收的，氢气中含有硅粉和二氧化硅也有部分氯硅烷，如图，硅粉拦截很容易，布袋除尘器就能搞定，然而麻烦的是二氧化硅，确实拦不住，400目的滤袋，形同虚设，本来考虑找到源头车间，针对性的处理，然而领导要求我们从终端解决。

       问题：

       什么样的过滤器能够过滤粉尘二氧化硅呢？
       有说烧结过滤器挺牛逼的，然而问题是，当烧结过滤器拦截下二氧化硅的同时也会让系统压差增加，而实际上，我们除尘器运行压力也就10kpa的样子不允许有过高压力和过大的压降，因为如果压力高了，前端其他排气的工段，有些设备将不能正常运转，所以，有没有用过这个的老铁提提意见和看法呢？或者有没有类似工作的老铁分享一下呢？
        再就是，加了这个烧结过滤器之后，是否需要同步加其他的设施呢？已经成型的设备是否和未成型的设备一样都能加呢？
        或者除了这个方案，各位老铁的公司有没有其他的处理方案呢？
        在此，先谢谢各位了，非常感谢！

                               
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是做多晶硅的吧？

智者明 发表于 2019-4-12 18:56
是做多晶硅的吧？

对的嘛！

要是想压降小，还有效果。
可以考虑重力沉降或者电除尘。

喷淋除尘也可以考虑哦。

楼主，你这反应时金属硅制取TCS吧，回收氢气的吧？

要从根源上解决二氧化硅的问题，要从他产生寻找原因。因为系统中不可能无缘无故有二氧化硅的。

反应后就金属硅粉、氯硅烷，要有二氧化硅的产生，除非系统中进水了，氯硅烷水解出来二氧化硅。你要想从根本上解决，想办法降低进料的水分、降低气体的露点就行了。而不是产生二氧化硅后怎么处理。

说实话，二氧化硅比较难处理，看你堵塞的照片，感觉二氧化硅含量还挺多的。应该是水分没控制好。

学习了

多晶硅系统不可能有二氧化硅啊，是不是过滤器拆开后水解到设备上的。

小小化工工程师 发表于 2019-4-16 08:54
楼主，你这反应时金属硅制取TCS吧，回收氢气的吧？

要从根源上解决二氧化硅的问题，要从他产生寻找原因 ...

源头上氮气露点还是没问题的，至于合成的硅粉，即便水分重点，那个也到不了我们设备这边，而且事实证明硅粉的含水也是合格的，系统水分的来源，肯定还是还原，冷氢化这些地方，然而麻烦的是，即便知道，领导也坚持从我们接收方解决问题，现在吧，对于过滤器，我个人并无好感，因为只能解决硅粉问题，二氧化硅，实在不行，即便烧结过滤器能过滤二氧化硅，但是我仍然不放心的是，拦下二氧化硅的那一刻，系统压差必然升高，而我们这边系统压差不允许太高，这样就得考虑脉冲，震动啥的，而这两个东西，貌似也脆的一逼，用不了几次就报废了。所以也是头疼！所以才来问有么有更好的解决方案！

s315777247 发表于 2019-4-18 10:36
多晶硅系统不可能有二氧化硅啊，是不是过滤器拆开后水解到设备上的。

系统有二氧化硅也还正常吧，或多或少的问题，特别是到了尾气处理和回收这边

学习学习

来学习学习

建议增设静电除尘器（ESP），SiO2有个最大的特点就是电荷特性很特殊，如果没记错，应该是带负电荷，对付它最有效的办法应该是特殊的静电除尘器，在这个方面日本有很成熟的技术，就是不知道现在是不是还对华封锁，80,90年代类似的除尘器人家是不卖的。。。