不同抛光方式粗糙度范围

各位，机械抛光，化学抛光，电解抛光粗糙度范围是多少，粗糙度最低能达到多少，请大佬分享经验

抛光方式的粗糙度范围主要取决于抛光材料、抛光工艺和设备等多因素。以下是三种抛光方法的一般粗糙度范围：

1. 机械抛光：这是一种通过物理摩擦去除材料表面微小凸起的方式，粗糙度可以降到约Ra 0.1μm，甚至更低。

2. 化学抛光：化学抛光是通过化学反应去除材料表面的方法，粗糙度可以降低到Ra 0.01μm至0.1μm之间，具体取决于材料种类和使用的化学溶液。

3. 电解抛光：电解抛光是通过对材料进行阳极溶解来改善表面粗糙度的方式，它可以将粗糙度降低到Ra 0.01μm至0.1μm之间。

值得注意的是，以上数值仅供参考，具体粗糙度还需要根据具体材料和操作条件进行调整。
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抛光是一个复杂的过程，抛光的光洁度与工件本身材质相关，也与抛光的工艺、抛光的介质相关。
一般工业上用的抛光光洁度，达到0.1um 已经是非常光亮的，但对于一些精密光学器件及微电子加工用的部件，则至少要达到0.01um甚至更高的光洁度，如光刻机的曝光平台，大型光学望远镜镜片。