填料塔塔效的问题

各位大佬好：
          在用ASPEN进行塔流程模拟时候，板式塔可以通过默弗里效率或者总塔效率，来修正理论版与实际板之间的差距。
          那填料塔呢，是否需要输入默弗里效率或者总塔效率来对理论板与实际板进行修正（虽然填料塔也不存在理论板），还是说这种修正已经包含在塔径校核输入的等板高度HETP里了，我一直有这个困扰。

          因为看了一些化工设计大赛的ASPEN塔设计文件，有的团队会用O'connell法来计算塔效（如图），更新实际板数和进料板（填料塔或者理论板都有这种做法），但是有的团队就没有这么做，所以这个疑问一直存在。
           如果填料塔需要输入塔效率进行校正，我们一般用什么办法进行估算塔效，在没有实际参数的情况下。
         
  

填料塔不像板式塔有明确的理论板数与实际板数之分，填料塔通常通过等价理论板高HETP来描述传质效率。在模拟填料塔时，往往不需要单独输入默弗里效率或总塔效率。校核输入的等价理论板高HETP已经包含了传质效率的考量。如果需要估算填料塔的传质效率，可以根据经验数据或文献中提供的关联式来计算，或者利用O'connell法等塔效率估算方法。无具体参数时，可参考类似工艺条件下已知的塔效率数据进行估算。
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