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[求助] 结晶装置缓冲罐和结晶器的抛光的必要性

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乌音格

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请教各位结晶前辈，结晶装置缓冲罐和结晶器的抛光要求的理由是什么呢？

发表于 2017-7-27 10:28:44

结晶器, 结晶, 装置缓冲罐, 必要性, 前辈

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乌音格楼主

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【海川小学6年】 | 头衔: TA未设置

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如果结晶器需要抛光，管道不需要抛光么？还是仅在停留时间较长的设备做抛光的要求呢

发表于 2017-7-27 10:30:56

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风华国岳

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设备一般都要求抛光，通俗点的说法就是镜面抛光，一般要求达到Ra0.6
机械抛光用的比较多，也能达到常规要求的抛光级别。
电化学抛光比较麻烦，尤其是大容积的设备，并不是每个制造厂都置办这工装。

发表于 2017-7-28 09:05:14

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乌音格楼主

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谢谢！镜面抛光的概念好像很模糊，我问过几个厂家，抛光级别5级到10级都有，这个在结晶行业里面没有个固定的要求么，另外Ra0.6还是Ra0.06呢

发表于 2017-7-28 10:26:40

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风华国岳

0.6吧，0.06的级别很高很高啊，长度单位是微米μm 详情回复发表于 2017-7-28 13:57

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风华国岳

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【海川小学3年】 | 头衔: TA未设置

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乌音格发表于 2017-7-28 10:26
谢谢！镜面抛光的概念好像很模糊，我问过几个厂家，抛光级别5级到10级都有，这个在结晶行业里面没有个固定 ...

0.6吧，0.06的级别很高很高啊，长度单位是微米μm

发表于 2017-7-28 13:57:46

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zxhslm

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一般结晶罐抛光为的防止物料挂壁。

发表于 2017-7-28 14:45:17

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乌音格楼主

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【海川小学6年】 | 头衔: TA未设置

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谢谢各位回复，我是觉得单纯的防止物料挂避免，抛光到10级是不是没有太多必要。

发表于 2017-7-29 08:59:43

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