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关于以CH3SiCl3气相二氧化硅的副产品次钠浓度问题

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海川小学1年  |  头衔:  TA未设置 
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rt,我们公司打算采用CH3SiCl3替代SiCl4生产,但是现有的工艺条件不能保证副产品次钠在10%浓度以上,因为反应产生的二氧化碳与碱反应一方面消耗了碱量,另一方面加入高浓度的碱造成吸收塔结晶,由其冬天最为明显(北方),所以像各位求助一种能够既能保证次钠浓度又能不产生结晶的方法,或者直接舍弃次钠,如何处理这种低浓度的次钠,求大佬们指点

 

发表于 2019-6-13 11:16:48

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1,防止结晶方法:
加入高浓度的碱液管线是需要蒸汽伴热的,这个容易实现。查一下不同浓度的碱液的冰点就明白了。

2,舍弃次钠,废液处理:
这个应该也是比较成熟的处理工艺了,一种低浓度的次钠直接进搅拌池,加亚硫酸氢钠溶液氧化还原,再酸碱中和废水即可达标排放。另外一种处理就是次钠废水先进行催化氧化,分解掉大部分的次钠后的废水再进行第一种方案。催化氧化所用的催化剂,很多厂家都再做,每个厂家的使用条件稍微不同,可以问下催化剂厂家。

其实,往深处讲,用MTS代替STC来烧白炭黑,正因为有CO2产生,所以,MTS生产的时候负荷应该是减小的吧?

 

发表于 2019-6-13 15:03:16

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海川小学1年  |  头衔:  TA未设置 
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小小化工工程师 发表于 2019-6-13 15:03
1,防止结晶方法:
加入高浓度的碱液管线是需要蒸汽伴热的,这个容易实现。查一下不同浓度的碱液的冰点就 ...

是的负荷是减小的

 

发表于 2019-6-19 09:53:15

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可以了解下你们的气相二氧化硅的比表面范围在多少吗?  详情 回复 发表于 2019-6-19 09:56

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shdsh 发表于 2019-6-19 09:53
是的负荷是减小的

可以了解下你们的气相二氧化硅的比表面范围在多少吗?

 

发表于 2019-6-19 09:56:13

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shdsh楼主 VIP会员 VIP会员 | 显示全部楼层       最后访问IP河北省
海川小学1年  |  头衔:  TA未设置 
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小小化工工程师 发表于 2019-6-13 15:03
1,防止结晶方法:
加入高浓度的碱液管线是需要蒸汽伴热的,这个容易实现。查一下不同浓度的碱液的冰点就 ...

我们碱管线是有蒸汽伴热的,打过来的碱不会结晶,但是进入吸收塔后造成严重结晶

 

发表于 2019-6-19 09:58:04

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加碱液的管头经常会堵吗?因为你们要做高浓度的次钠溶液,所以加碱浓度太高了。 我们的是稀释到10%左右进碱洗塔处理尾气的。  详情 回复 发表于 2019-6-19 11:02

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小小化工工程师 发表于 2019-6-19 09:56
可以了解下你们的气相二氧化硅的比表面范围在多少吗?

一般产160左右和210左右

 

发表于 2019-6-19 10:03:16

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shdsh 发表于 2019-6-19 09:58
我们碱管线是有蒸汽伴热的,打过来的碱不会结晶,但是进入吸收塔后造成严重结晶

加碱液的管头经常会堵吗?因为你们要做高浓度的次钠溶液,所以加碱浓度太高了。

我们的是稀释到10%左右进碱洗塔处理尾气的。

 

发表于 2019-6-19 11:02:58

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