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标题: 多晶硅金属杂质、B及P的去除 [打印本页]

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作者: 长大后 我就成了你    时间: 2020-2-10 14:30
标题: 多晶硅金属杂质、B及P的去除
在还原炉内，各种杂质是如何沉积在多晶硅的表面，如何降低包括金属、B、P各类杂质沉积的？请问各位有何高见？

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作者: ionresin    时间: 2020-3-25 21:37
可以用树脂净化，效果好，成本低

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作者: saibinfm    时间: 2020-5-6 07:55
学习一下

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作者: 张超~专_ohrHF    时间: 2020-5-7 16:14
用树脂在前端净化

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作者: 长大后 我就成了你    时间: 2020-6-4 09:03

ionresin 发表于 2020-3-25 21:37
可以用树脂净化，效果好，成本低

还原炉内的沉积啊，并不是外部的树脂去除

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作者: 长大后 我就成了你    时间: 2020-6-4 09:04

熊孩子他爸 发表于 2020-5-14 15:36
先用氢化装置的粗分进行提纯TCS，在经过树脂进行吸附，在经过精馏二次提纯。

你确定不是先精馏再吸附，氢化装置这么多杂质直接进树脂吸附，树脂扛得住？

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